納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化分散的效果。
納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨
許多核酸藥物目前在臨床應(yīng)用上**的難題就是在體內(nèi)易于被降解的問題,難以 到達(dá)靶點部位,這是本領(lǐng)域難以克服的技術(shù)難題,大大限制了其臨床應(yīng)用。
一種制備納米核酸導(dǎo)向藥物的方法,所述方法包括
(1)將C32粒子、導(dǎo)向物、核酸藥物混合分散,形成復(fù)合物;
(2)將(1)獲得的復(fù)合物進(jìn)行聚乙二醇修飾,獲得納米核酸導(dǎo)向藥物。
在另一優(yōu)選例中,所述的導(dǎo)向物是多肽,且步驟⑴包括(a)將C32與導(dǎo)向物進(jìn)行酯化反應(yīng),形成C32-導(dǎo)向物復(fù)合物;以及(b)將C32-導(dǎo)向物復(fù)合物與核酸藥物混合,形成C32-導(dǎo)向物-核酸藥物復(fù)合物。在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,C32與導(dǎo)向物的摩爾比是1 (2_3);較佳地是 1 2.4。
在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,酯化反應(yīng)的催化劑是S0427Si02。在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,酯化反應(yīng)的時間是4士2小時;較佳地是4士 1小時。在另一優(yōu)選例中,聚乙二醇修飾的方法是將C32-導(dǎo)向物_miRNA(較佳地溶于碳 酸鈉溶液)與過量的mPEG-SPA(較佳地溶于**中)反應(yīng)。在本發(fā)明的另一方面,提供所述的納米核酸導(dǎo)向藥物的用途,用于制備靶向治療 疾病的組合物。在本發(fā)明的另一方面,提供一種組合物,含有有效量的所述的納米核酸導(dǎo)向藥物;以及藥學(xué)上可接受的載體。本發(fā)明的其它方面由于本文的公開內(nèi)容,對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是顯而易見 的。
一層由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
納米核酸導(dǎo)向藥物均質(zhì)膠體磨