二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
二氧化硅消光粉高速膠體磨
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二氧化硅消光粉外觀為白色分散性粉末狀或顆粒狀,廣泛應用于涂料工業(yè)。通過對其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制,消光粉能夠為不同的涂料和印刷油墨提供出色的啞光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感,平均粒徑小且集中。
在傳統(tǒng)膠體磨基礎(chǔ)上改進,不僅使轉(zhuǎn)速由原來的3000轉(zhuǎn)提升到了14000轉(zhuǎn),甚至是21000轉(zhuǎn)的超高轉(zhuǎn)速,細碎效果更好,作用效率更快,同時在結(jié)構(gòu)是除了原本有的細碎研磨功能以外,更增設了高速離心分散功能,使物料在細碎過后能夠更加穩(wěn)定的分散,不分層,不沉淀。 改進型膠體磨依靠定轉(zhuǎn)子間間隙(間隙可調(diào))使物料在通過研磨區(qū)域使受到強大的機械力、液力剪切、高頻振動等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎,隨后進過第二級高速剪切分散盤再一次剪切細化分散、勻化,達到物料超細粉碎和分散勻化的效果。
1、耐有機溶劑、耐腐蝕;
2、材質(zhì)為316L不銹鋼;
3、設備定轉(zhuǎn)子(研磨分散工作腔體)間間隙可調(diào),粒度可控;
4、設備整體機身夾套設計,高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生的熱量可以通過外接冷卻設備進行控溫;
5、主軸與電機分體設計,用戶可根據(jù)需要選擇適當?shù)霓D(zhuǎn)速;
6、設備為變頻調(diào)速,可通過變頻控制柜合理準確的調(diào)節(jié)設備轉(zhuǎn)速;
7、可靈活設計生產(chǎn)過程中的特殊需求(設備表面光潔度、真空、防爆、設備材質(zhì));
8、從實驗室設備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗,無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù),程度降低了風險
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
二氧化硅消光粉高速膠體磨