CDS石墨烯復合材料研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
CDS石墨烯復合材料研磨分散機
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研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
CdS/石墨烯納米復合材料復合材料的結(jié)構(gòu)、形貌及其光學和可見光光催化性能進行了表征。結(jié)果表明,高速剪切不僅合成過程簡單,而且石墨烯表面所負載的CdS 納米粒子尺寸小、分散性好,與石墨烯的結(jié)合牢固。由于石墨烯優(yōu)異的吸附性能和對載流子的高遷移率,CdS/石墨烯納米復合材料顯示出較高的可見光光催化性和光穩(wěn)定性,30 min 內(nèi)甲基橙的降解率即可達到90%以上,且3 次重復實驗過程中光催化效果接近。
石墨烯是一種新型的二維碳納米材料, 其能隙為零,具有超大的比表面積(2 630 m2?g-1)、良好的化學穩(wěn)定性以及在室溫下超高的載流子遷移率(2×105cm2?V-1?s-1)。研究表明,將CdS 與石墨烯復合,利用石墨烯規(guī)整的二維平面結(jié)構(gòu)作為其載體, 一方面可以提高CdS 的分散程度,另一方面可加快光生電荷遷移的速率, 提高復合材料的催化活性和光穩(wěn)定性。另外,大量石墨烯包裹在CdS 納米顆粒表面,呈現(xiàn)出黑色, 可以提高復合材料對可見光的吸收能力。然而,目前有關(guān)CdS/石墨烯復合材料的研究還很鮮見,常用的制備方法主要有一鍋法、水熱-溶劑熱法、微波輔助合成等,但這些方法操作復雜,得到的復合材料中CdS 納米粒子的顆粒尺寸大、粒徑分布寬,對復合材料的光催化性能有不利影響。
CdS 納米粒子與石墨烯復合后,光催化性能明顯改善,在0.5 h 內(nèi)甲基橙的降解率即可達到90%以上,光催化性能的提高一方面是由于石墨烯優(yōu)異的電子傳導性能, 有效降低了光生電子和空穴的復合, 另一方面歸因于石墨烯的比表面積和優(yōu)異的吸附性能。同時,超聲化學法使得CdS 納米粒子在石墨烯片層表面牢固結(jié)合, 從而促進了光生電荷的傳遞,提高了載流子的分離效率。此外,由于石墨烯共軛π 鍵分子的雜化作用,促進了光生空穴的遷移,從而有效抑制了CdS 的光腐蝕。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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